轨道式涂胶显影机

1、占地小、稳定性高、运营成本低
2、满足8寸及以下晶圆需求，可涂覆3~20000CP光刻胶
3、适用于科研项目，实验室:小批量生产
4、控制精度高,Ether CAT 通讯，高精度摆臂及传输机构，实时控制解决方案

产品参数

应用范围

Compound semiconductorMOSFET/lGBT Scientific ResearchRF-IC MEMS LED OPTICS

晶圆尺寸（mm）

50-300mm

配置

匀胶+显影

适用工艺

g-line、i- line、 Pl

应用领域

Compound semiconductorMOSFET/IGBT Scientific ResearchRF-IC MEMS LED OPTICS

衬底材料

Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTa03、Li3P04

匀胶胶厚均匀性（1-200CP）

片内≤±1%，片间≤±1%

匀胶胶厚均匀性（200-1500CP）

片内≤±2%，片间≤±2%

匀胶胶厚均匀性（1500-7000CP）

片内≤±3%，片间≤±3%

显影线条均匀性（≥1um）

片内≤±1%，片间≤±1%

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大族芯科技