轨道式涂胶显影机

设备特点:
1、占地小、稳定性高、运营成本低
2、满足8寸及以下晶圆需求,可涂覆3~20000CP光刻胶
3、适用于科研项目,实验室:小批量生产
4、控制精度高,Ether CAT 通讯,高精度摆臂及传输机构,实时控制解决方案
  • 产品参数
应用范围
Compound semiconductorMOSFET/lGBT Scientific ResearchRF-IC MEMS LED OPTICS
配置
匀胶+显影
衬底材料
Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTa03、Li3P04
适用工艺
g-line、i- line、 Pl
晶圆尺寸(mm)
Max 200mm Compatible Square
应用领域
Compound semiconductorMOSFET/IGBT Scientific ResearchRF-IC MEMS LED OPTICS
胶厚均匀性(1-200CP)
片内≤±1%,片间≤±1%
胶厚均匀性(600-1500CP)
片内≤±2%,片间≤±2%
胶厚均匀性(1500-7000CP)
片内≤±3%,片间≤±3%
显影均匀性
片内≤±2%,片间≤±2%
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