化合物半导体、功率器件、MEMS、先进封装、射频集成电路、MircoLED，光学玻璃

设备特点:
1、清洗机可以提供持续稳定的液体压力输出，以保证工艺效果和产能
2、机台配置灵活可最多搭载四个工艺腔体
3、在不损伤图形的前提下，提供较强的兆声波能量，加速液体分子冲击力，以去除深孔、深沟槽内的污染物
4、液体流量、压力以及温度等参数控制的稳定性，为产品的一致性提供了有力支撑
5、适用于12寸及以下晶圆，可同时兼容两种相邻尺寸晶圆